表面・界面のnm領域を中心に、多様な装置（XPS／AES／TOF‑SIMS／EPMA・SEM／SPM）を組み合わせて多面的に解析します。
汚染・酸化・偏析・密着不良・劣化・異物などの原因を、前処理（断面作製）やGCIB等の低ダメージ深さ分析、必要に応じた非暴露ハンドリングも含めて“対策に繋がる結論”まで導きます。
| 装置名 | 略号 | メーカー | 型番 |
|---|---|---|---|
| 多機能走査型Ｘ線光電子分光装置（VersaProbe） | XPS/ESCA、UPS | ULVAC-PHI | PHI5000 VersaProbeII |
| X線光電子装置用前処理装置 (VersaPrep) | |||
| 走査型Ｘ線光電子分光装置 | XPS/ESCA | ULVAC-PHI | QuanteraⅡ |
| 走査型オージェ電子分光装置 (SMART-200) | SMART | ULVAC-PHI | SMART-200 |
| 飛行時間型二次イオン質量分析計 | TOF-SIMS | ULVAC-PHI | TRIFT V |
| 電子線マイクロアナライザー | FE-EPMA | 日本電子 | JXA-8530F |
| 電界放射形走査電子顕微鏡 | FE-SEM | 日立製作所 | S-4800 |
| 電界放射形走査電子顕微鏡 | FE-SEM | 日本電子 | JSM-7000F |
| 走査型電子顕微鏡 | SEM | 日本電子 | JSM-7800F |
| 低真空走査電子顕微鏡 | SEM | 日本電子 | JSM-6460LA |
| 高感度SEM用EDS検出器 | EDS | ブルカー・エイエックス | XFlash®5060FQ |
| 電子後方散乱回折 | EBSD | TSL | OIM |
| 透過電子後方散乱回折 | t-EBSD | TSL | OIM |
| 走査型プローブ顕微鏡法 | SPM | ブルカー製 | MultiMode8（NanoScope V） |
| 走査型プローブ顕微鏡法 （Dimension XR） | SPM | ブルカージャパン | Dimension XR |
| 顕微レーザラマン分光装置 | RAMAN | 日本分光 | NRS-3300 |
| 大気非曝露冷却クロスセクションポリッシャ | CP | 日本電子 | IB-09020CP |
| 卓上傾斜切削機 | NEAT |